扫描电化学显微镜

设备型号：DC-SECM-ECL5520

基本参数：

三位机械位移平台技术指标：X、Y、Z行程50×50×50mm，分辨率：20nm，重复定位精度：≤2μm，最大探针移动速度：1mm/s

三位压电微位移平台技术指标：X、Y、Z行程95×95×95mm，分辨率：1.9nm，重复定位精度：≤3nm，最大响应时间：≤25 ms

光学检测器技术指标：输入电压：4.5-5.5V

最高成像采集分辨率：~10nm；最大有效扫描成像面积：100×100μm（压电晶体），50×50mm（步进电机）

主要功能：基于电化学原理工作，可用于电化学腐蚀参数测量、微区内物质氧化或还原所给出的电化学电流测量。

样品要求：样品可以是导体、绝缘体或半导体。

设备管理员：戚玉敏

放置地点：北辰材料楼C209
电 话：022-60201962